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當(dāng)前位置：鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司>>電感耦合等離子體光譜儀>>全譜ICP光譜儀>> 鋼研納克 Plasma 2000ICP光譜儀
Plasma 2000型全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，徑向觀測(cè)，具有穩(wěn)健的檢測(cè)能力。
高效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的高精度運(yùn)行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
高速面陣CCD采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。
功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡(jiǎn)化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。
Plasma 2000型全譜ICP光譜儀
1. 光學(xué)系統(tǒng)：中階梯二維分光光學(xué)系統(tǒng)，焦距400mm
2. 譜線范圍：165nm~900nm，光學(xué)分辨率：0.007nm(200nm處)
3. 光柵規(guī)格：中階梯光柵，52.67刻線/毫米，尺寸：100mm x 50mm
4. 晶體管固態(tài)射頻發(fā)生器，小巧高效
5. 27.12MHz頻率提高信噪比，改善了檢出限
6. 自動(dòng)匹配調(diào)節(jié)
7. 全組裝式炬管，降低了維護(hù)成本
8. 計(jì)算機(jī)控制可變速12滾軸四通道蠕動(dòng)泵，具有快速清洗功能
9. 實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)穩(wěn)定性良好：重復(fù)性 RSD ≤0.5% (1mg/L) (n=10)；短時(shí)間穩(wěn)定性 RSD≤0.5%（500 × LOD）、長時(shí)間穩(wěn)定性 RSD≤1.0%（500 × LOD）
